洁净室的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。洁净室温度主要由DCC 来调节， 但同时受新风送风温湿度的影响，如果给定太高的温度，进入洁净室和循环风混合后，DCC 就需要更大量的冷量进行冷却，这就直接导致能源的浪费；如果给定太低的温度， 进入洁净室和循环风混合后， 即使DCC 的开度为零，整个洁净室的温度却仍然太低，这将使得整个洁净室的温度超标。
洁净室对温度的要求还应根据各行业的不同，其相应的温度控制要求也不同。以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。
直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有士0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产最佳温度范围为35-45%。
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